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Intel为新制程加速，未来将使用SOI技术

类型：原创作者：中关村在线 briza 日期：2003-10-30 09:18:48

今天，Intel宣布将为转向0.09微米制造制程加速。Intel目前正在美国的俄勒冈晶圆工厂和爱尔栏的晶圆工厂加速部署0.09微米制程，其中加入Strained Silicon技术，来生产0.09微米制程的处理器。Intel在俄勒冈的晶圆工厂已经开始量产0.09微米制程的Pentium4和Centrino处理器，并且良率也在不断提高。据Intel说，采用Strained Silicon技术后，能使现有速度提高1/10。而且不排除未来会采用SOI技术。明年年末，Intel会有更多的工厂转向0.09微米制造制程。

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资料来源：中关村在线

文章字数：228

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