日前，据消息称，IBM公司将要投产其45纳米处理器生产线。
IBM公司投入2亿美元，与位于日本东京的Toppan 印刷公司合作，建造一条生产45纳米处理器的生产线，预计该生产线将于2007年投产。
按照双方协议，所有的研究和测试工作将在IBM的美国公司进行，一旦测试通过，Toppan公司就将其转移到自己的生产线。两家公司宣称，将通过一种称为光掩膜（photomask）的设备将集成电路图像刻在硅晶片上，这一技术将有助于45纳米半导体的量产。
而按以前的信息，Intel在2004年曾经宣布，他们已在俄勒冈州的一个研发机构中率先安装了第一台商用“超紫外线光蚀刻技术” （EUV lithography ）设备。这种设备就是透过一组镜头以及一种名为“光掩膜”（photomask）的设备，将电路图像刻录在硅晶片上。超紫外线光蚀刻工具还得依靠紫外线才能运转，它的波长小于13.5纳米，在2004年，英特尔的工厂内使用的光源波长为193纳米，这种光源最小只能刻录50纳米大小的电路。
随着从90纳米到65纳米，再到45纳米的过渡，芯片可以设计的越来越小，或者可以在同等大小时装配更多的晶体管。根据目前的资料，该生产线将是世界上最早量产45纳米芯片的生产线。
