日立相信垂直正交存储技术将使硬盘设计师把小于一英寸的微硬盘的容量提高到60G和桌面电脑的硬盘容量提高到超过TB。该公司展示可以每平方英寸上230G存储密度的技术,比现在最高存储密度的产品还要高出70%。
普通硬盘的存储密度已经接近极限—这句活我们已经听了超过十年了。现在看起来,这个有32年历史的硬盘技术瓶颈还不是那么近。十年前,工业家认为100G的硬盘可能需要激光辅助技术,现在日立相信能够使硬盘容量向TB过渡。
达到这个目标的概念是建立在垂直正交存储技术,这项技术垂直的安排数据以增加存储密度。这项技术的思想有100多年的历史了,最近被日立的一些竞争者像希捷所讨论。现在日立宣布将存储密度提高到每平方英寸230G, 比东芝1.8英寸硬盘的133G每平方英寸有了令人瞩目的提高。日立称达到230G的密度是通过巧妙处理磁头与存储媒质,使两者的间距只有10纳米,也就是人的头发的1/10000。
日立公司相信垂直交互存储技术能比纵向存储技术的数据密度提高10倍,为达到60G一英寸微硬盘和5TB桌面电脑硬盘的高度铺平道路。 垂直交互存储技术是考虑一种在紧密的同一区域里保持数据完整性的解决方法。这项技术可以在存储介质产生更高的磁场区域,提供制造商一种方法来使各个磁化单位不互相影响,并且保持磁化区域的稳定以避免数据的丢失。希捷公司认为在200G每平方英寸的存储密度之前纵向存储技术将达到极限。在早些时候希捷的首席技术官员Mark Kryder说垂直存储技术将使工业能力直接达到1TB每平方英寸的水平。这种硬盘将可能在2007年出现。
根据日立的计划,垂直存储技术的潜力将在未来的五到十年内得以实现。