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45纳米 IBM将于07年量产新制程芯片

类型:投稿 作者:小草 日期:2005-05-26 10:22:35



    日前,据消息称,IBM公司将要投产其45纳米处理器生产线。

    IBM公司投入2亿美元,与位于日本东京的Toppan 印刷公司合作,建造一条生产45纳米处理器的生产线,预计该生产线将于2007年投产。

    按照双方协议,所有的研究和测试工作将在IBM的美国公司进行,一旦测试通过,Toppan公司就将其转移到自己的生产线。两家公司宣称,将通过一种称为光掩膜(photomask)的设备将集成电路图像刻在硅晶片上,这一技术将有助于45纳米半导体的量产。

    而按以前的信息,Intel在2004年曾经宣布,他们已在俄勒冈州的一个研发机构中率先安装了第一台商用“超紫外线光蚀刻技术” (EUV lithography )设备。这种设备就是透过一组镜头以及一种名为“光掩膜”(photomask)的设备,将电路图像刻录在硅晶片上。超紫外线光蚀刻工具还得依靠紫外线才能运转,它的波长小于13.5纳米,在2004年,英特尔的工厂内使用的光源波长为193纳米,这种光源最小只能刻录50纳米大小的电路。

    随着从90纳米到65纳米,再到45纳米的过渡,芯片可以设计的越来越小,或者可以在同等大小时装配更多的晶体管。根据目前的资料,该生产线将是世界上最早量产45纳米芯片的生产线。







资料来源:www.zol.com.cn
文章字数:536
 
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